UV 석영 연마판

고객이 제공한 도면이나 샘플을 바탕으로 맞춤형 UV 석영 연마판, 고투명 자외선 석영판, 윈도우 플레이트를 직접 공급합니다. 당사의 제품은 UV 레이저, 광학 기기 및 반도체 제조 산업에서 널리 사용됩니다.

고품질 석영 유리판/디스크는 반도체, 광학, 실험실 등 다양한 산업 분야에서 널리 사용되는 유리 제품의 일종입니다. 고순도 용융 석영 유리로 만들어져 열 충격과 화학적 부식에 대한 저항력이 뛰어납니다. 이 플레이트와 디스크는 뛰어난 광학 특성, 높은 투과율, 낮은 열팽창 계수가 특징입니다. 크기, 두께, 표면 마감 등 특정 요구 사항을 충족하도록 맞춤 제작할 수 있습니다. 고유한 특성으로 인해 고품질 석영 유리판/디스크는 웨이퍼 가공, 광학 창 및 화학 분석과 같이 높은 정밀도가 필요한 응용 분야에 사용하기에 이상적입니다.

소개:

광학 석영 연마판은 다양한 산업 분야에서 필수적인 구성 요소로, 중요한 응용 분야에 필요한 정밀도와 성능을 제공합니다. 이 글에서는 광학 석영 연마판의 주요 특성, 이점 및 수치적 측면을 살펴보고 우수한 광학 품질을 달성하는 데 있어 석영 연마판이 갖는 중요성을 조명합니다.

1. 탁월한 평탄도:

광학 석영 연마판은 뛰어난 평탄도로 유명하며, 연마된 표면의 균일성과 일관성을 보장합니다. 이 플레이트는 λ/10(여기서 λ는 빛의 파장)의 낮은 평탄도 수준을 달성할 수 있어 표면 왜곡을 최소화하고 광학 시스템의 무결성을 유지합니다.

2. 서브-앵스트롬 표면 거칠기:

표면 거칠기는 연마된 표면의 광학적 품질을 결정하는 데 중요한 역할을 합니다. 광학 석영 연마판은 일반적으로 0.1 - 0.5Å(옹스트롬) 범위의 서브 옹스트롬 표면 거칠기를 자랑합니다. 이 매우 매끄러운 표면 마감은 산란과 반사를 최소화하여 빛 투과율을 극대화하고 전반적인 광학 성능을 향상시킵니다.

3. 높은 재료 순도:

광학 석영 연마판은 고순도 석영으로 제조되어 불순물을 최소화하고 뛰어난 광학적 선명도를 보장합니다. 재료의 순도는 연마된 표면을 통과하는 빛의 투과율과 품질에 직접적인 영향을 미칩니다. 순도 99.99% 이상의 석영 플레이트가 일반적으로 사용되며 현미경, 분광학 및 레이저 시스템과 같은 애플리케이션에서 빛을 정밀하게 제어할 수 있습니다.

4. 허용 오차 및 치수 정확도:

광학 애플리케이션의 엄격한 요구 사항을 충족하기 위해 석영 연마판은 높은 치수 정확도와 엄격한 공차로 생산됩니다. 이러한 플레이트의 일반적인 치수 공차는 ±0.01mm에서 ±0.05mm로, 광학 시스템과의 정밀한 정렬 및 호환성을 보장합니다. 이 수준의 정확도는 최적의 성능을 보장하고 정렬 불량이나 불일치로 인한 유해한 영향을 방지합니다.

5. 사용자 지정 옵션:

광학 석영 연마판은 광범위한 맞춤화 옵션을 제공하여 특정 애플리케이션 요구 사항에 맞는 맞춤형 솔루션을 제공합니다. 정확한 요구 사항을 충족하기 위해 맞춤형 모양, 크기, 두께를 제조할 수 있습니다. 또한 특정 표면 마감, 코팅 및 가장자리 처리를 적용하여 성능과 기능을 더욱 향상시킬 수 있습니다.

결론:

광학 석영 연마판은 다양한 산업 분야에서 우수한 광학 품질을 달성하는 데 기여하는 핵심 부품입니다. 탁월한 평탄도, 옹스트롬 이하의 표면 거칠기, 높은 재료 순도, 정밀한 치수 정확도를 갖춘 이 플레이트는 최적의 빛 투과율을 보장하고 표면 왜곡을 최소화합니다. 이러한 플레이트를 맞춤 제작할 수 있어 활용도가 더욱 향상되어 특정 애플리케이션에 맞는 맞춤형 솔루션이 가능합니다. 정밀 광학이 계속 발전함에 따라 고성능 광학 석영 연마판에 대한 수요가 증가하여 혁신을 촉진하고 광학 기술의 경계를 넓힐 것으로 예상됩니다.